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KS107QN-4B型腔內掃查超聲體模YY/T 1659-2019
更新時間:2024-04-23 點擊次數:50

一.概述(shu)

KS107QN-4B型腔內掃查超聲體(ti)模,系超聲傳播特性(xing)方面(mian)模仿(fang)組(zu)織的(de)人(ren)體(ti)物理模型。由(you)超聲仿(fang)組(zu)織材料(Ultrasonically Tissue-Mimicking Material,簡稱TM材料)和嵌(qian)埋于其(qi)中的(de)多種(zhong)測試靶標(包(bao)括靶線、仿(fang)囊腫、仿(fang)結石、仿(fang)腫瘤)以及(ji)聲窗(chuang)、外(wai)殼、指示性(xing)裝飾面(mian)板等(deng)構成的(de)測試裝置(zhi)。

體模(mo)(mo)上(shang)面(mian)板(ban)(ban)中心位(wei)置(zhi)開有兩個內(nei)(nei)徑為10mm的腔內(nei)(nei)探(tan)頭掃(sao)查(cha)(cha)通(tong)孔(kong),用以(yi)插入(ru)腔內(nei)(nei)探(tan)頭進行超聲掃(sao)查(cha)(cha),專用于考察配接腔內(nei)(nei)超聲探(tan)頭的B超影(ying)(ying)像裝(zhuang)置(zhi)的影(ying)(ying)像特性參數,包括盲區、側向(橫向)分(fen)辨力、軸向(縱向)分(fen)辨力、側向幾何(he)(he)位(wei)置(zhi)精度(du)、軸向幾何(he)(he)位(wei)置(zhi)精度(du)以(yi)及仿病灶的直徑誤(wu)差。體模(mo)(mo)左右側面(mian)板(ban)(ban)開有用于進行回(hui)(hui)撤方向分(fen)辨力及回(hui)(hui)撤方向幾何(he)(he)位(wei)置(zhi)精度(du)測量的探(tan)查(cha)(cha)孔(kong)通(tong)道(dao),內(nei)(nei)徑為10mm。體模(mo)(mo)外觀(guan)及內(nei)(nei)部(bu)結構(gou)示意(yi)圖(tu)如圖(tu)1所示。

二.基(ji)本結構

圖(tu)1 KS107QN-4B型超聲體模外(wai)觀及內(nei)部示(shi)意圖(tu)

1.四壁和底由有(you)機(ji)玻璃加(jia)工(gong)組裝而成,四壁外表(biao)面(mian)(mian)貼有(you)指示和裝飾用的(de)塑料薄膜面(mian)(mian)板;

2.外(wai)形尺寸為210mm(長)×140mm(寬(kuan))×66mm(高);

3.底板(ban)開有(you)直(zhi)徑(jing)36mm的(de)圓(yuan)孔并用直(zhi)徑(jing)為50mm、厚(hou)度為2mm的(de)橡(xiang)膠薄片封閉,作(zuo)為注射保養液和除氣(qi)的(de)通道;

4. 體模內充(chong)有符合國家標準要求的(de)TM材(cai)料(liao)作為標準傳聲媒(mei)質。

5. 體模上面(mian)板距離聲窗60mm及(ji)120mm處中心(xin)開直(zhi)徑(jing)均為(wei)φ10mm的(de)(de)腔(qiang)內探(tan)頭探(tan)查(cha)孔(kong)通(tong)(tong)道(dao),該通(tong)(tong)道(dao)為(wei)通(tong)(tong)孔(kong)通(tong)(tong)道(dao),探(tan)頭可(ke)以(yi)插入孔(kong)內進(jin)行(xing)超聲掃(sao)查(cha)。體模左右(you)側面(mian)板開有用于可(ke)以(yi)進(jin)行(xing)回撤方(fang)向分辨力及(ji)回撤方(fang)向幾何位置精度測(ce)量的(de)(de)內徑(jing)為(wei)10mm的(de)(de)探(tan)查(cha)孔(kong)通(tong)(tong)道(dao)。該通(tong)(tong)道(dao)為(wei)貫穿左右(you)面(mian)板的(de)(de)通(tong)(tong)道(dao),腔(qiang)內探(tan)頭可(ke)以(yi)從左右(you)側面(mian)板插入進(jin)行(xing)掃(sao)查(cha)。

6.線靶系統

TM材料(liao)中嵌埋有以下靶群,其分布如圖2所(suo)示(shi),計有:

(1) O1-O3探查孔。

體模上面板(ban)開有兩(liang)(liang)個(ge)直徑為φ10mm的(de)探(tan)查(cha)孔,其位(wei)置(zhi)分(fen)別位(wei)于面板(ban)的(de)上半部分(fen)中心及下半部分(fen)中心。探(tan)查(cha)孔O1周圍布置(zhi)有軸側向分(fen)辨力靶(ba)群(qun),側向靶(ba)群(qun),縱(zong)向靶(ba)群(qun)。探(tan)查(cha)孔O2周圍布置(zhi)有盲區靶(ba)群(qun)、成像幾(ji)何畸變靶(ba)群(qun)、仿(fang)囊性病(bing)灶(zao)、仿(fang)腫瘤病(bing)灶(zao)、仿(fang)囊與(yu)仿(fang)結石(shi)病(bing)灶(zao)。探(tan)查(cha)孔O3位(wei)于體模左右(you)兩(liang)(liang)側面板(ban),用于回撤方向分(fen)辨力及回撤方向幾(ji)何位(wei)置(zhi)精度測量(liang)。該通道(dao)為貫穿左右(you)面板(ban)的(de)通道(dao),腔(qiang)內(nei)探(tan)頭可(ke)以從左右(you)側面板(ban)插入(ru)進行掃(sao)查(cha)。

(2) A:盲區靶(ba)群(qun)。

盲區靶(ba)群布置(zhi)(zhi)在探查孔O2周圍,共8根靶(ba)線,每隔45°設置(zhi)(zhi)一個,設置(zhi)(zhi)深度由中心探頭探查孔O2邊緣(yuan)正上方1 mm開(kai)始,以1mm為(wei)步徑,分別為(wei)1、2、3、4、5、6、7、8mm。

(3) B1—B4: 軸(zhou)側向分(fen)辨力靶(ba)群。

軸側(ce)向分(fen)辨力靶(ba)群(qun)布置在探(tan)查孔O1周圍,其側(ce)向分(fen)支分(fen)別距(ju)中(zhong)心探(tan)查孔O1邊緣(yuan)5,10,20,30mm的圓弧上(shang),即B1和B2、B3、B4四組靶(ba)群(qun),各靶(ba)線分(fen)布于圍繞探(tan)查孔中(zhong)心半(ban)徑為10mm、15mm、25mm、35mm的圓弧上(shang)。兩相鄰(lin)靶(ba)線中(zhong)心側(ce)向間(jian)(jian)距(ju)(兩靶(ba)線之間(jian)(jian)的間(jian)(jian)距(ju)弦長)依次為3,2,1,0.5mm。

該靶(ba)群(qun)(qun)(qun)其軸(zhou)向分(fen)支中(zhong)兩相鄰(lin)靶(ba)線(xian)均在以中(zhong)心(xin)探(tan)查(cha)孔(kong)(kong)(kong)圓(yuan)心(xin)為(wei)圓(yuan)心(xin)的(de)(de)半(ban)徑上,相鄰(lin)靶(ba)線(xian)靶(ba)線(xian)中(zhong)心(xin)距探(tan)查(cha)孔(kong)(kong)(kong)中(zhong)心(xin)半(ban)徑差值分(fen)別為(wei)0.5,1,2,3mm。以位于探(tan)查(cha)孔(kong)(kong)(kong)中(zhong)心(xin)半(ban)徑為(wei)10mm即探(tan)查(cha)孔(kong)(kong)(kong)邊緣5mm的(de)(de)軸(zhou)側向分(fen)辨力為(wei)例,軸(zhou)側向分(fen)辨力靶(ba)群(qun)(qun)(qun)分(fen)布示意圖(tu)如圖(tu)3所示。此處軸(zhou)測向分(fen)辨力靶(ba)群(qun)(qun)(qun)中(zhong)靶(ba)線(xian)間隔均為(wei)靶(ba)線(xian)直(zhi)線(xian)距離,側向分(fen)辨力靶(ba)群(qun)(qun)(qun)中(zhong)靶(ba)線(xian)間隔為(wei)弦長(非圓(yuan)弧弧長)。

(4) C1─C3:側(ce)向靶(ba)群(用于考察側(ce)向(橫向)幾何位置精度(du))

側向靶群布置在探查孔O1周圍,分別位于距中心探查孔上半部邊緣5mm,10mm,30mm處,其中C2─C3靶群中靶線中心側向距離(兩靶線之間的直線距離)為10mm。C1靶群中靶線中心側向距離(兩靶線之間的直線距離)為5mm。靶線分布于圍繞探查孔中心半徑為10mm、15mm、35mm的圓弧上。5mm處的側向靶群由探查孔左側水平位置起呈半圓狀分布,共5個靶點,10mm處的側向靶群C2由探查孔左側水平位置起呈半圓狀分布,共4個靶點。30mm處的側向靶群C3由探查孔左側水平位置起呈半圓狀(zhuang)分布(bu),共(gong)10個靶點。

(5) D1─D2:縱向靶(ba)群(qun)

縱向靶群D1布置在探查孔O1周圍,位(wei)于含靶線(xian)6條,位(wei)于距中心探查孔O1左(zuo)側邊緣5、10、20、30、40、50mm處。

縱向靶群D2布(bu)置在(zai)探查孔(kong)O1周圍,共含靶(ba)線(xian)4條(tiao),位于距中(zhong)心探查孔(kong)O1正下方邊緣(yuan)5、10、20、30mm處(chu)。

(6) J:圖像(xiang)幾何畸(ji)變靶群

圖像幾何畸(ji)變靶(ba)群布置在探查(cha)孔O2周圍,位于含靶(ba)線(xian)4條,分別(bie)位于距中心探查(cha)孔O2邊緣10mm處(chu)上(shang)下(xia)左右(you)成正(zheng)方形的(de)四個頂點上(shang)。

(7) H1─H4:探(tan)查孔回撤方向分(fen)辨力靶群(qun)

回撤方向分辨力為了考察換能器沿探查孔軸向方向回撤時,能夠顯示出兩個清晰回波信號的兩靶線之間的最小間距。回撤分辨力靶群布置在探查孔O3附近。H1─H4靶群位于距中心探查孔O3邊緣5、10、15、20mm處。每組(zu)靶(ba)群的分辨力(li)自探查孔從內向(xiang)外(wai)分別為(wei)3,2,1,0.5mm。

(8) H5─H6:聲窗回(hui)撤(che)方向分辨(bian)力靶群

聲窗回撤方向分辨力靶群H5─H6靶群分別布置在聲窗下5mm及10mm深度處。H5靶群的分辨力自聲窗從右向左分別為3,2,1,0.5mm,H6靶(ba)(ba)群(qun)(qun)的分(fen)辨(bian)力自聲窗從(cong)左向(xiang)右分(fen)別為3,2,1,0.5mm。該組靶(ba)(ba)群(qun)(qun)也可(ke)作為線陣超(chao)聲探頭的側向(xiang)分(fen)辨(bian)力靶(ba)(ba)群(qun)(qun)使用。

(9) I1─I2:探查孔(kong)回(hui)撤方向幾何(he)位置精(jing)度靶(ba)群

回撤方向幾何位置精度靶群布置在探查孔O3附近。I1靶群位于距中心探查孔O3通道邊緣5、10mm處,I2靶群位于距中心探查孔O3通道邊緣15、20mm處(chu)。每(mei)組靶群的靶線間距為5mm。

(10) I3:聲窗回(hui)撤方向(xiang)幾何位置精度(du)靶群

聲窗回撤方向幾何位置精度靶群I3靶群布置在聲窗下5mm、15mm、25mm深度處。I3靶群的靶線間距為(wei)5mm。

圖(tu)2 KS107QN-4B型體模探查孔(kong)、靶線(xian)及模擬病灶分布

7.模擬病灶

(1)E1—E3:仿囊

仿囊(nang)E1—E3布(bu)置在探查(cha)(cha)孔(kong)O2周圍,嵌埋有(you)囊(nang)性模擬病灶3個,均為圓柱形,直(zhi)徑分(fen)別為2,4,6mm,柱軸(zhou)(zhou)均與靶(ba)線平行,軸(zhou)(zhou)心(xin)分(fen)別位于(yu)距離中心(xin)掃查(cha)(cha)孔(kong)正(zheng)上方邊緣5,10,30mm處。

(2)F仿腫瘤,

仿囊E1—E3布置在探查孔(kong)O2周(zhou)圍,位(wei)(wei)于中(zhong)心掃查孔(kong)O2右下側位(wei)(wei)置,仿腫瘤軸(zhou)心距(ju)離中(zhong)心掃查孔(kong)邊(bian)緣10mm處,呈圓柱形,直徑5mm,柱軸(zhou)與靶線平行。

(3)G仿(fang)囊與(yu)結(jie)石,

仿(fang)囊與(yu)結(jie)石,布置(zhi)在探查(cha)孔O2周圍。仿(fang)囊呈(cheng)圓柱形(xing),位于中心掃查(cha)孔O2左下側(ce)水平位置(zhi),距離中心掃查(cha)孔邊緣5~15mm之間(jian),直徑10mm,柱軸與(yu)靶線平行。仿(fang)結(jie)石為不規則形(xing),位于囊之中腰,最(zui)大(da)尺寸約4─6mm。

圖(tu)3 KS107QN-4B型體模 軸側(ce)向分(fen)辨(bian)力靶(ba)群分(fen)布示意圖(tu)

三.技術特性(xing)

參照國(guo)家標(biao)準(zhun)GB10152—2009中通用體(ti)模技術(shu)要求本體(ti)模技術(shu)參數(shu)為(wei):

1.TM材料聲速:(1540±10)m/s(23±3℃)

2.TM材料聲衰減系數(shu)斜率:(0.70±0.05)dB/cm/MHz(23±3℃)

3.尼龍靶線直徑:(0.1±0.02)mm

4.尼(ni)龍(long)靶線位(wei)置公差(cha):±0.05mm

四.使用(yong)方法

1. KS107QN-4B型(xing)腔內(nei)掃(sao)查(cha)超(chao)聲體模由于其(qi)掃(sao)查(cha)結構為(wei)介入(ru)式掃(sao)查(cha),所以(yi)需特別注意垂(chui)直插入(ru)探頭,以(yi)免(mian)損毀掃(sao)查(cha)腔內(nei)TM材料。

因其探查孔為通(tong)孔,所以推(tui)薦兩種準備(bei)模式備(bei)選(xuan)。

(1) 可(ke)以待腔內超聲探(tan)頭插(cha)入后,將一(yi)(yi)側(ce)體模(mo)的孔用透明膠帶封(feng)住(zhu)(zhu),平置(zhi)于水平桌面,在掃插(cha)孔周圍倒入適(shi)量保養液。或先(xian)用膠帶封(feng)住(zhu)(zhu)一(yi)(yi)側(ce)體模(mo)探(tan)查(cha)孔,在另(ling)一(yi)(yi)側(ce)倒入保養液,再緩緩插(cha)入探(tan)頭。以不損傷內部材(cai)料為原則,選取適(shi)宜方(fang)式進行(xing)掃查(cha)。

(2) 選取(qu)一大小適(shi)宜的容器,倒入大量超(chao)聲(sheng)保養(yang)(yang)液,將體模整體水平置于容器內,底部(bu)略微架空,保養(yang)(yang)液液面(mian)超(chao)過體模上表面(mian)。此時再垂直緩緩插入腔(qiang)內超(chao)聲(sheng)探頭,準備開(kai)始超(chao)聲(sheng)掃查。

2.按規定程(cheng)序開啟(qi)被(bei)測儀(yi)器。

3.將被測儀器探頭(tou)插(cha)入探查孔,并(bing)保持保養液充盈,掃(sao)查聲路良好耦合。記下探頭(tou)型號、掃(sao)描方式和工(gong)作頻率。

4.(最大)探測(ce)深度測(ce)量

(1)將探頭對(dui)準縱向靶群。

(2)提高(gao)總增益(yi)(yi),調高(gao)STC,提高(gao)遠場(chang)增益(yi)(yi),近(jin)場(chang)增益(yi)(yi)調至適當。

(3)提高對比度(對可調者,下同(tong))至適當程度。

(4)提(ti)高亮(liang)度(對(dui)可調者(zhe),下同),但以(yi)全屏幕上無(wu)散焦(jiao)和(he)光暈

為限。

(5)聚(ju)焦(jiao)調節(對可調者,下同)置(zhi)遠場聚(ju)焦(jiao)或多段(duan)、全(quan)深度(du)同時聚(ju)焦(jiao)狀態(tai)。

(6)通過上述調節,獲得被(bei)檢儀器所(suo)能達到的最大深度(du)范圍內的均勻畫面。

(7)微動探(tan)頭,讀取(qu)所(suo)觀測到的最(zui)大(da)深(shen)度(du)靶線所(suo)在深(shen)度(du)(mm),即為(wei)(最(zui)大(da))探(tan)測深(shen)度(du)。

5.盲區測量

(1)將探頭(tou)對準盲區靶群,若不能一次覆(fu)蓋全部,則(ze)轉動(dong)探頭(tou)分段觀(guan)測之。

(2)適當降低總增益(yi)、近場增益(yi)和(he)亮度,減弱TM材(cai)料背向散(san)射點,使靶線圖像清晰可見。

(3)聚(ju)焦(jiao)調節(jie)置(zhi)近(jin)場聚(ju)焦(jiao)狀態。

(4)讀(du)取所能觀測到的最(zui)小深(shen)度(du)靶線所在(zai)深(shen)度(du)(mm),即為盲區。

6.(閾(yu)值)側向分(fen)辨(bian)力測量

(1)將探頭對準(zhun)某個側向(xiang)分辨力靶群或軸側向(xiang)分辨力靶群的側向(xiang)分支。

(2)降低總(zong)增益(yi),根(gen)據靶群所在深度減弱TGC(或STC、DGC)。

(3)降低亮度。

(4)保持較高的(de)對比度。

(5)聚(ju)焦(jiao)調節(jie)置(zhi)于或靠近被檢靶群所在深(shen)度或置(zhi)于多段、全(quan)深(shen)度同時聚(ju)焦(jiao)狀態(tai)。

(6)通過上述調節,將所測(ce)深度(du)附近(jin)TM材(cai)料背向(xiang)散射光(guang)點隱(yin)沒(mei),并保(bao)持靶線圖像(xiang)清晰可見。

(7)讀取所能分辨(即靶線圖像之間亮(liang)度與背景相同(tong))的最小靶線間隙(mm),即為該深(shen)度處的(閾值(zhi))側向(xiang)分辨力。

7.(閾值)軸向分辨力測量

(1)將探頭對(dui)準某個(ge)軸(zhou)向(xiang)分辨(bian)力(li)靶群或軸(zhou)側向(xiang)分辨(bian)力(li)靶群的軸(zhou)向(xiang)分支。

(2)被檢儀器調節同“(閾值(zhi))側向(xiang)分辨力測量",在檢測完某深(shen)度(du)側向(xiang)分辨力后,即刻檢測同深(shen)度(du)軸向(xiang)分辨力。

(3)讀(du)取所能(neng)分辨的(de)最(zui)小靶線間隙(mm),即為(wei)該深(shen)度處(chu)的(de)軸向分辨力。必須注意,由于遮擋(dang)效應的(de)存在,有時需將增益(yi)、亮度適當提(ti)高(gao),方可(ke)看清KS107QN-4B型體模中的(de)1mm及(ji)0.5mm間隙。

8.軸向幾(ji)何位置示值誤差(精度)測量

(1)將探頭對準縱向靶群。

(2)將總增益(yi)、TGC(或STC、DGC)、對比(bi)度(du)、亮度(du)均調(diao)至中等。

(3)聚焦調節置多段或(huo)全深度聚焦狀(zhuang)態。

(4)通過上(shang)述調節(jie),在(zai)較弱的(de)TM材料背向(xiang)散射光點背景(jing)上(shang)獲(huo)得(de)清晰的(de)縱向(xiang)靶群(qun)圖像。

(5)將圖像凍結,在有效(xiao)探測(ce)深(shen)度范(fan)圍內,用(yong)電子游標(biao)依次測(ce)量每相(xiang)距20mm(因整體掃查范(fan)圍較小,也可考慮(lv)10mm間距測(ce)量)的兩靶(ba)線圖像中心距離(mm),以(yi)其中與(yu)20mm(10mm)偏差(cha)最大者(zhe)求(qiu)取相(xiang)對(dui)誤差(cha)(%),即為軸向(xiang)幾何位置示值誤差(cha)(精度)。

9.側向幾何位置示值(zhi)誤差(cha)(精(jing)度(du))測量

(1)將(jiang)探頭對準側向靶群C1\C2。

(2)將(jiang)總增益、TGC(或STC、DGC)、對比度(du)、亮(liang)度(du)調至中等。

(3)聚(ju)焦(jiao)調節置于或(huo)靠近橫(heng)向靶群(qun)所(suo)在深度或(huo)置于多段、全深度聚(ju)焦(jiao)狀態。

(4)將(jiang)圖像(xiang)凍結(jie),用電(dian)子(zi)游標依次測量(liang)每(mei)相距(ju)20mm(或(huo)10mm)的兩靶線圖像(xiang)中(zhong)心間距(ju)(mm),以其中(zhong)與20mm(或(huo)10mm)偏差最大(da)者(zhe)求取相對誤差(%),即為橫向幾何位(wei)置示值(zhi)誤差(精(jing)度)。

10.觀察模擬病灶

(1)將探頭對準感興趣(qu)的模擬病灶。

(2)調節增益、TGC(或STC、DGC)、對比(bi)度(du)、亮度(du)調至最佳(jia)狀態(tai)。

(3)聚(ju)(ju)焦(jiao)調節置(zhi)于或靠近該病灶所在深度(du)聚(ju)(ju)焦(jiao)或多(duo)段、全深度(du)聚(ju)(ju)焦(jiao)狀態。

(4)通過上述調節,獲(huo)得與(yu)臨床診(zhen)斷相似的TM材料背向散射圖像,并在此(ci)背景上觀(guan)察模擬(ni)病灶圖像,其特征分別為:

a.囊腫(zhong):內部為(wei)沒有光點的黑洞,臨床上(shang)稱為(wei)“無(wu)回(hui)波區";后方背向散射光點比(bi)同深(shen)度兩側圖像更亮,臨床上(shang)稱為(wei)“后方增強"。必(bi)要時可用電子游標測量其縱向或橫(heng)向直徑(mm),并(bing)與(yu)設計(ji)值比(bi)較,求(qiu)取相對誤差(%)。

b.結石:本身圖像為強(qiang)反射(she)光團(tuan),后方背向散(san)射(she)光點被隱(yin)沒于一黑暗帶中,臨床上稱為“后方聲影(ying)"。

c.腫瘤:圖像為比背景更粗、更亮(liang)的光(guang)點區,輪(lun)廓呈圓形。

11.測量完畢,如(ru)果體(ti)(ti)模(mo)背面(mian)粘貼(tie)膠紙(zhi)(zhi),請先去除(chu)膠紙(zhi)(zhi)后(hou)再緩緩拔(ba)出體(ti)(ti)模(mo)內(nei)(nei)(nei)掃(sao)(sao)查(cha)的(de)超聲腔內(nei)(nei)(nei)探(tan)頭。如(ru)果采用(yong)的(de)是(shi)大容器掃(sao)(sao)查(cha)的(de),體(ti)(ti)模(mo)背面(mian)沒(mei)有膠紙(zhi)(zhi),可直接緩緩拔(ba)出體(ti)(ti)模(mo)內(nei)(nei)(nei)掃(sao)(sao)查(cha)的(de)超聲腔內(nei)(nei)(nei)探(tan)頭,收(shou)集好所(suo)用(yong)的(de)超聲保養液以(yi)便下次(ci)掃(sao)(sao)描再次(ci)使(shi)用(yong)。擦干體(ti)(ti)模(mo)表面(mian),將探(tan)查(cha)孔的(de)兩(liang)側用(yong)膠紙(zhi)(zhi)粘貼(tie)封閉完整(zheng),以(yi)免(mian)內(nei)(nei)(nei)部漏液。

注(zhu):為(wei)避免超(chao)聲保養液損傷皮膚(fu)(長期大量接(jie)觸(chu)會使皮膚(fu)去油(you)粗糙),如(ru)經常接(jie)觸(chu),建議穿戴薄乳(ru)膠手套進行操作(zuo)。超(chao)聲保養液嚴(yan)禁入口(kou),少(shao)量接(jie)觸(chu)請(qing)盡快用(yong)清水(shui)洗凈即(ji)可。

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